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14纳米的轻舟处理器会更贵!
随着光刻机启动,193纳米波长的深紫外光不断地曝光,底部的移动平台也不断移动,弥补第一次曝光电路图案的不足。
数分钟过去。
晶圆二次曝光结束。
等待片刻以后,林天戴上手套亲自取出晶圆,眯起眼睛仔细观察电路图案,大致看不出图案有重叠,但还需要进行测验。
“加急送去切割测验。”
冯承铭目光看向身旁的工程师,使了个眼色道:“小龙,你拿去切割测验。”
“我?”
那名工程师愣了愣。
他还没实操一遍呢,学不会多重曝光咋办?
冯承铭瞪了他一眼,像似在说你不去,难道要我去啊!
没办法。
那名工程师只好照做。
“好了,也给你们示范了,都自己试试,难度也就集中在晶圆对准上面。”
林天退后一步说道。
冯承铭做为龙芯国际席,自然当仁不让道:“那我来试试。”
然而看似简单的步骤,却让这位院士几度折戟,对准的难度远比想象中难,出现些许偏差,直接损失一大半芯片。
“细心点,慢慢来。”
林天也不着急,反正浪费的不是他的钱。
在冯承铭还在摸索时,一位工程师上前套近乎道:“林席,为什么你对准就没偏差,冯席就……”
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